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1600℃真空高溫管式爐GSL-1600X加熱元件采用1700℃級硅鉬棒，廣泛用于真空或惰性氣體保護狀態(tài)下，新材料樣品的燒結或退火。

1600℃真空高溫管式爐GSL-1600X-S加熱元件采用1750℃級硅鉬棒，廣泛用于真空或惰性氣體保護狀態(tài)下，新材料樣品的燒結或退火。

1600℃雙溫區(qū)高溫真空管式爐GSL-1600X-Ⅱ每個加熱區(qū)域長300mm，由30段智能溫度調節(jié)儀進行控溫，采用硅鉬棒加熱元件溫度可達1600℃，采用硅碳棒加熱元件溫度可達1400℃，通過調節(jié)兩個溫區(qū)的控溫程序使爐管內溫度場形成一溫度梯度。本機可用于CVD或PVD方法來生長納米材料和制作各種薄膜。

1600℃三溫區(qū)高溫真空管式爐GSL-1600X-III主要用于高等院校、科研院所、工礦企業(yè)等實驗或小批量生產，針對電子陶瓷的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解低溫沉積（CVD）等工藝。

1700℃高溫真空氣氛管式爐GSL-1700X采用1800℃級硅鉬棒為加熱元件，Z高溫度可達到1700℃，可廣泛地用于真空或惰性氣體保護狀態(tài)下材料的燒結和退火。

1700℃真空管式爐GSL-1700X-S采用30段程控PID控溫儀，Z高溫度可達到1700℃，可廣泛地用于真空或惰性氣體保護狀態(tài)下材料的燒結和退火。