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簡要描述:VTC-600GD高真空磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。
詳細介紹
品牌 | 其他品牌 | 價格區(qū)間 | 面議 |
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產地類別 | 國產 | 應用領域 | 綜合 |
VTC-600GD 高真空磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600GD高真空磁控濺射儀最多可選配四個靶槍,配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備,特別適用于實驗室研究固態(tài)電解質及OLED等。
·最多可選配四個靶槍,配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜(靶槍可以根據客戶需要任意調換)。
·可制備多種薄膜,應用廣泛。
·體積小,操作簡便。
·整機模塊化設計,真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設計,可根據用戶實際需要調整。
·可根據用戶實際需要選擇電源,可以一個電源控制多個靶槍,也可多個電源單一控制靶槍。
產品名稱 | VTC-600GD高真空磁控濺射儀 | |
產品型號 | VTC-600GD | |
安裝條件 | 本設備要求在溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 | |
主要參數 | 1、電源電壓:220V 50Hz | |
15、產品規(guī)格: |
序號 | 名稱 | 數量 | 圖片鏈接 |
1 | 直流電源控制系統(tǒng) | (可選)套 | - |
2 | 射頻電源控制系統(tǒng) | 1套 | - |
3 | 膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng) | 1套 | - |
4 | 分子泵(德國進口或者國產更大抽速) | 1臺 | - |
5 | 冷水機 | 1臺 | - |
6 | 聚酯PU管(Ø6mm) | 4m | - |
序號 | 名稱 | 功能類別 | 圖片鏈接 |
1 | 金、銦、銀、鉑等各種靶材 | (可選) | - |
2 | 可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。 | (可選) | - |
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