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簡要描述:VTC-200PV真空旋轉涂膜機適用于半導體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。本機可用于強酸、強堿性涂覆溶液的涂膜制備。本機可以對涂膜機腔室進行抽真空,使樣品在*真空的狀態(tài)下進行涂膜,適用于在空氣中易氧化變質的薄膜材料的使用。工作時利用真空盤吸附的方式將樣品固定在載樣盤上,該設備可儲存12組程序,每組程序包含6個運行階段。不同運行階段設備轉數(shù)不同,使設備緩慢提升速
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產品簡介:VTC-200PV真空旋轉涂膜機適用于半導體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。本機可用于強酸、強堿性涂覆溶液的涂膜制備。本機可以對涂膜機腔室進行抽真空,使樣品在*真空的狀態(tài)下進行涂膜,適用于在空氣中易氧化變質的薄膜材料的使用。工作時利用真空盤吸附的方式將樣品固定在載樣盤上,該設備可儲存12組程序,每組程序包含6個運行階段。不同運行階段設備轉數(shù)不同,使設備緩慢提升速度限速度,有利于薄膜材料在樣品表面均勻成膜,且不會過多浪費,節(jié)約材料。具有操作簡單、清理方便,體積小巧等優(yōu)點,主要應用于各大專院校、科研院所的實驗室中進行薄膜的生成過程。
產品名稱 | VTC-200PV真空旋轉涂膜機 | ||
產品型號 | VTC-200PV | ||
安裝條件 | 本設備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:設備配有進出水口 2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地 3、氣:不需要 4、工作臺:尺寸600mm×600mm×700mm,承重50kg以上 5、通風裝置:需要 | ||
主要特點 | 1、設有12組程序,每組包含6個運行階段,每段增減速率設置范圍:100—2000rpm/s,每段時間范圍:0—60s。 2、樣品可采用真空吸附的方式進行固定,也可采用粘結或夾持的方式進行固定,操作簡便。 3、吸盤真空度可以達到-0.08MPa。 4、使用定位工具可將樣件很容易地放在中心位置,以減少偏心而造成的震動或飛片。 5、根據(jù)樣件規(guī)格可以配用不同的吸盤,且更換方便簡單。 6、電機采用直流無刷電機,無級調速,可靠性高,適應性強,維修與保養(yǎng)簡單,噪音低,震動小,運轉平穩(wěn),啟動快速穩(wěn)定,加速后運行平穩(wěn),可以保證涂層厚度的一致性和均勻性。 7、當用真空吸附方式固定樣品時采用無油雙杠真空泵,體積小巧、結構簡單、操作容易、維護方便、不會污染環(huán)境等優(yōu)點。 8、可在惰性氣體氣氛下進行涂層 9、可在真空狀態(tài)下進行涂層,此時需要用粘接基片或夾持基片的方式對被涂基片進行固定。 10、腔體通體采用聚丙烯材質,使用壽命更長,提高耐化學腐蝕性和優(yōu)異的抗應力開裂性能。 11、全英文操作系統(tǒng)。 12、具有開蓋保護功能,當涂膜過程中或涂膜結束時打開上蓋后機器立刻迅速減速直到停止. 13、控制器采用控制箱,液晶顯示數(shù)值,更直觀可靠。 | ||
技術參數(shù) | 1、功率:350W/24V 2、轉速:500rpm-6000rpm 3、時間:1s-60s 4、腔體真空度可達1Torr(VRD-8機械泵連續(xù)工作) | ||
產品規(guī)格 | 尺寸:?250mm×290mm;重量:25kg | ||
標準配件 | 1 | 真空吸盤 | 1個 |
2 | 夾持吸盤 | 1個 | |
3 | 無油真空泵 | 1臺 | |
可選配件 | VRD-16機械泵 移液器 其它尺寸的真空吸盤 |
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