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當(dāng)前位置:首頁(yè) > 產(chǎn)品中心 > 金屬熔煉爐 > 感應(yīng)熔煉爐 > SP-85KTC2000℃溫度可控型30KW感應(yīng)加熱爐SP-85KTC
簡(jiǎn)要描述:2000℃溫度可控型30KW感應(yīng)加熱爐SP-85KTC是一款較大型高溫感應(yīng)加熱、熔煉爐系統(tǒng),配備30KW感應(yīng)加熱器、8.5″(216mm)石英管、鉸接式法蘭及閥門、石墨坩堝、石墨毯、氧化鋁保溫毯、16L/min循環(huán)冷水機(jī)、真空泵和移動(dòng)爐架,Z高溫度可以達(dá)到2000℃(使用時(shí)石英管內(nèi)需通入保護(hù)性氣體),是生長(zhǎng)晶體、金屬熔煉和各種材料的熱處理的選擇。
詳細(xì)介紹
品牌 | 其他品牌 |
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產(chǎn)品型號(hào) | 2000℃溫度可控型30KW感應(yīng)加熱爐SP-85KTC |
主要特點(diǎn) | 1、采用多塊氧化鋁制作的耐火材料,用于支撐石墨坩堝,并防止熱量輻射。 2、設(shè)有自動(dòng)水壓、過(guò)熱、功率過(guò)高保護(hù)系統(tǒng)。 3、溫控器采用PID方式控溫,可設(shè)置30段升降溫程序,設(shè)有過(guò)熱和斷偶保護(hù)功能。 4、配有防腐型真空計(jì),當(dāng)氣壓在10mbar以上時(shí),不需因測(cè)量氣體種類的不同進(jìn)行系數(shù)轉(zhuǎn)換,量程可到 3.8×10E-5 torr。 5、迷你型浮子流量計(jì)精度為4%。 6、配有雙級(jí)旋片機(jī)械泵(2L/s),可使石英管內(nèi)真空度達(dá)到10E-2torr。 |
技術(shù)參數(shù) | 感應(yīng)加熱器 1、工作電壓:三相AC 380 V 50Hz(需60 A空氣開(kāi)關(guān)) 2、工作電流:7Amps-70Amps(需100A空氣開(kāi)關(guān)) 3、功率:zui大振蕩功率30KW,zui大輸入功率15KW 4、輸出頻率:30KHz-110 KHz 5、占空比:80% 6、感應(yīng)線圈:內(nèi)徑Φ220 mm,高65 mm 7、空氣冷卻:后風(fēng)扇 |
溫度控制器及熱電偶 1、工作電壓:AC208V-240V 單相 2、控溫精度:±3℃ 3、熱電偶:C型,外徑Φ1/4″,長(zhǎng)10″ 4、連續(xù)工作溫度范圍:1000℃-2000℃ 5、zui大升溫速率:4℃/s(1000℃-1200℃)、3℃/s(1200℃-1500℃)、1℃/s-2℃/s(1500℃-2000℃) | |
石墨坩堝(易耗件) 1、高純石墨坩堝:外徑Φ114mm,內(nèi)徑Φ100mm,高142mm 2、zui大容量:樣品所占容積應(yīng)為石墨坩堝容積的1/2,zui大質(zhì)量為4kg(以鐵標(biāo)定) 3、保溫層:石墨坩堝外環(huán)繞三層隔熱材料,從內(nèi)至外分別為石墨氈(可耐溫2200℃)-氧化鋁(可耐溫 1700℃)-高溫氈,總厚度為32mm
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石英管和密封法蘭 1、石英管:兩端開(kāi)口,外徑Φ216mm,內(nèi)徑Φ208mm,長(zhǎng)500mm 2、頂部法蘭:采用不銹鋼折疊式法蘭,裝有防腐型真空計(jì)、不銹鋼截止閥,設(shè)有1個(gè)1/4″的鎧裝接口( 可插入熱電偶至石英管內(nèi)部,更準(zhǔn)確地測(cè)量樣品溫度) 3、底部法蘭:設(shè)有KF25接口,可通過(guò)波紋管與真空泵相連接
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水冷機(jī) 1、溫度:5℃-30℃ 2、水流速:>16L/min 3、水箱容積:12L,采用不銹鋼制作 4、水壓:≥0.1MPa 5、流量:≥5L/min (建議使用特定的冷卻劑液以達(dá)到*的冷卻效果) | |
真空泵 工作電壓:AC208V-240V單相 | |
移動(dòng)爐架 尺寸:700mm×1000mm×700mm,鋼框架結(jié)構(gòu),方便移動(dòng)感應(yīng)加熱器和帶法蘭的石英管 | |
產(chǎn)品規(guī)格 | |
注意事項(xiàng) | 操作前,必須仔細(xì)閱讀說(shuō)明書,且操作人員需帶防護(hù)面罩。使用時(shí),熔煉必須在≤0.02Mpa 的流動(dòng)氬氣 下進(jìn)行,流量小于200ml/min,需始終保持石英管內(nèi)的氣壓<0.02MPa。升溫過(guò)程中需時(shí)刻注意石英管內(nèi) 的氣壓,若氣壓超過(guò)安全值,會(huì)引起石英管開(kāi)裂、法蘭蹦出,甚至造成人身傷害。 |
其他事項(xiàng) | 本機(jī)可改為RTP(快速熱處理爐)和混合物物理化學(xué)氣相沉積(HPCVD)系統(tǒng)。請(qǐng)參看下圖。
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